Thermal Vacuum Chamber (열진공챔버)
Writer DAON

열진공챔버는 챔버 내부를 고진공 압력으로 만들 수 있으며, 동시에 상온 약 150도에서 영하 80도까지 반복적으로

가열 또는 냉각함으로써 우주공간과 유사한 환경을 제공하여 우주공간에서 사용될 각 종 소자의 성능 및 안정성을 평가할 수 있으며,

각 종 소자의 아웃게싱(Out-gassing) 제거를 목적으로 사용할 수 있다. 

​Thermal vacuum chamber generally can make inside the chamber into high vacuum pressure

and able to variation of the temperature of the inside chamber from high temperature to cryogenic temperature, repeatedly.

Using by this performance, It would be used to research for performance and stability of the device that will be used in Space,

and ​can also be used in degassing of the various kind of devices.

 

 

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